噴砂機VD 是通過氣相物質的化學反應在基材表面沉積固態(tài)薄膜的一種工藝方法。CVD 技術發(fā)展較早，在上 世紀 60 年代已應用于硬質合金刀具的涂層處理，并且在硬質合金可轉位刀具上得到了較為廣泛的應用。在 CVD 工藝中，氣相沉積所需要金屬源的制備相對容易，可進行 TiBN、TiB2、TiN、TiC、TiCN、 、Al2O3 等單層及多元多層復合涂層，其涂層與基體結合強度較高，薄膜的厚度達 7～9μ m，CVD 涂層具有較好的 耐磨性。據統計，美國在八十年代中后期有 85%的硬質合金工具采用了涂層處理，其中 CVD 涂層占 99%； 在九十年代的中期，CVD 涂層硬質合金刀具仍占到了 80%以上。CVD 涂層技術擁有許多的優(yōu)點：1.涂層源 的制備比較容易。2.鍍膜的均勻性比較好。3.成膜粒子的能量非常低，因此鍍膜的內應力很低。4.能夠得到 比較厚的鍍膜。5.鍍膜的耐磨性非常好。但是 CVD 涂層技術也有一些缺陷：

1 噴砂機工藝的處理溫度較高，刀具 材料抗彎強度會產生下降。2.CVD 涂層技術排放的廢氣可造成嚴重的環(huán)境污染。因此，從九十年代中期以 來，高溫 CVD 涂層技術的發(fā)展、應用受到了制約。八十年代末期，Kruup Widia 研發(fā)的低溫化學氣相沉積 技術（PCVD）已經可以實現應用，該技術的工藝處理溫度已下降至 450℃至 650℃，能夠有效的抑制η 相 產生，能夠進行 TiN、TiCN、TiC 等金屬涂層，應用于螺紋刀具、銑刀、鉆頭等，但是 PCVD 技術在刀具 涂層領域內的應用目前仍然不是十分廣泛。 引起 CVD 涂層技術出現實質性突破的是 80 年代末期產生的 MT—CVD 技術（中溫化學氣相沉積技術） ， 該技術的機理與高溫 CVD 涂層技術是相同的，但它的涂覆溫度僅為 700℃到 900℃，而且正向著更低的溫 度和更高的真空度方向發(fā)展。MT—CVD 涂層技術突出的優(yōu)點有沉積的速度快、涂層的厚度均勻、涂層的 附著力較強、內部的殘余應力較小。但 MT—CVD 涂層技術的首要缺點是產生嚴重的環(huán)境污染問題，其次， 它的涂層內部產生拉應力，容易產生裂紋。新型的 MT-CVD 技術是將含 C、N 的有機物乙腈（CH3CN）為 主要的反應氣體混合 TiCL4、H2、N2 在 700℃到 900℃溫度下產生分解、發(fā)生化學反應，產生 TiCN 的一 種新的方法，該方法得到的涂層為致密纖維狀結晶形態(tài)，涂層的厚度可達到 8-10μ m。該涂層結構為為致 密纖維狀結晶， 因此擁有很高的耐磨損性， 很高的抗熱震性和韌性。 再通過高溫化學氣相沉積技術 （HT-CVD 技術）在表層鍍層上沉積 Al2O3 和 TiN 等抗氧化性能好、高溫性能好、與加工材料的親和力較小的材料。 高溫化學氣相沉積技術適用于高速度、高溫度、大負荷的干式切削條件，刀具的壽命比一般的涂層刀片延 長了一倍。 我國 CVD 涂層技術的研究開始于七十年代初， 由于該項技術的專用性強， 并于八十年代中期達到實用化， 并與國際 噴砂機CVD 工藝技術水平相當；隨后十多年里國內和國外的發(fā)展類似，比較緩慢；我國 PCVD 技術的 研究開始于九十年代初，該技術目前主要用于模具涂層，在刀具領域內的應用，還不是十分廣泛。從總體 上講，我國的 CVD 技術與國際先進水平保持同步。